蘇州微科鼎鍍膜科技有限公司
研發用磁控濺射鍍膜設備

組合濺射技術(高通量材料開發)設備

組合濺射技術為用戶提供了廣泛的新材料開發能力,該設備將迅速幫助客戶確定特定應用所需的合適成分,從而節省大量時間和金錢,可以單次測試100種獨特的成分。

技術特點:

設備可以采用直徑從50毫米到超過300毫米的圓形基板以及方形基板

設備可安裝最多六個磁控濺射陰極,配置1.5英寸或2英寸的靶材

濺射陰極可以安裝在升降臺上,以提供不同的沉積速率。根據不同的要求,測試襯墊的尺寸可以從大約4 mm到超過25 mm,可以在現場使用軟件輕松更改和重復測試

設備包括升降臺上的石英晶體微天平,以在各種不同條件下提供每個源的校準,包括腔體氣體成分、壓力和流速、電源功率和靶基距等,所有數據都存儲在查找表中

化合物可以是二元、三元或四元,元素的占比可以從小于1%到超過99%

所有系統均完全由計算機控制,并提供所有相關沉積參數的完整數據記錄

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