LIDIZ IBS濺射系統是一種應用廣泛的高效精密光學鍍膜設備。LIDIZ配備用于基片預清洗、表面活化、濺射輔助的射頻柵網離子源，以及射頻中和器。LIDIZ用于從多種材料中獲得高精度、高質量的薄膜，提供獨特的光學工藝控制系統：單波長OCP和寬帶OCP，可智能實時優化光學鍍膜設計，自動完成高精度和優異重復性的復雜濾光片鍍膜。
配置射頻中和器的射頻離子束濺射沉積
用于輔助、預清潔、表面活化且配置射頻中和器的射頻離子源
多種IZOVAC自動光控系統配置：寬帶OCP,單波長OCP, 兼具2種控制類型的OCP Duo
具有負載腔的單盤式或行星架系統可以增加產量
優異的工藝穩定性及成品率
技術參數
裝機面積
3540×1840×2000 mm (L×W×H)
設備重量
4500 kg
濺射源
配射頻中和器的柵網型射頻離子源
輔助源
工件架鍍膜面積
單盤式?320 mm (800 cm2)
行星式3×?320 mm ( 2400 cm2)
負載腔
適用單盤式工件架
鍍膜均勻性
≤±0.5%
≤±0.25% 使用均勻擋板
工藝控制系統
OCP自動光學控制系統
寬帶OCP
單波長OCP
兼具2種控制類型的OCP Duo
基片材料
玻璃陶瓷、彩色及消色差光學玻璃、石英、氟化鉀、藍寶石等。
最大靶位數
4 pcs
濺射靶材
TiO2, Ta2O5, Nb2O5, ZrO2, HfO2, SiO2, etc.
鍍膜速率
1.4 - 2.1 ? /sec 由具體材料決定
工藝中基片溫度（無加熱情況）
<100 оС.
基片加熱系統溫度
≤250 оС.
基片加熱均勻性
± 2оС
極限真空度
8E-5 Pa
達到極限真空時間
8 hours
工藝起始壓力
8E-4 Pa
達到工藝起始壓力時間
30 min
真空泵系統
干式機械泵&冷阱泵
可選分子泵
鍍膜實例
532 nm 窄帶濾光片
532 nm + 1064 nm 帶阻濾波器
